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2022-05
真空蒸镀、溅镀、离子镀介绍
真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层
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2022-05
什么是真空离子镀膜技术
在真空室内采用真空弧光放电技术，在阴极材料表面产生弧光，使阴极材料形成原子和离子。在电场的作用下，原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体，即可在工件表面形成具有优良性能的镀层。
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2022-05
真空半导体镀膜的应用现状
众所周知，半导体的含义顾名思义就是其导电性介于干导体和绝缘体之间，其电阻率间于金属和绝缘体之间，通常在室温时为1mΩ·cm～1GΩ·cm 范围之内。近年来，真空半导体镀膜在各大半导体企业中，显然其地位是越来越高的，特别是在一些大规模集成系统电路的开发技术研究方法以磁电变换器件、发光器件等研制工作方面的体现尤为明显，真空半导体镀膜具有重要的作用。
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2022-05
蒸发机真空系统常见的操作规程
防指纹镀膜机采用磁控溅射成膜技术，不但解决了膜层附着力、硬度、耐脏污、耐摩擦性、耐溶剂性、耐老化、耐水泡及水煮等性能问题，而且可以AR膜和AF膜同炉生产，特别适合于金属和玻璃表面颜色装饰、AR膜、AF/AS膜的大规模生产。该设备装载量大，效率高，工艺简单，操作方便，膜层一致性好。除了优越的膜层性能外，且具有环保的制程。
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