本系列设备是利用磁控靶将镀膜材料转化为纳米尺度的粒子，沉积在基片表面形成薄膜。成卷基膜放在真空内，通过电驱动卷绕机构一头收一头放，持续通过靶区，接收靶料粒子，形成致密的膜层。

特点：

1.低温成膜。温度对基材影响小，不会产生变形；适用于PET、PI等基材卷材薄膜；

2.膜厚可设计。通过工艺调整，可自行设计沉积较薄或较厚的镀膜层；

3.多个靶位设计，工艺灵活。整机可装八支靶，既可用单质金属靶材也可用化合物、氧化物靶材，可制备单一结构的单层膜，也可制备复合结构的多层膜，工艺非常灵活。

设备可制备电磁屏蔽膜、柔性线路板镀膜、各种介质膜、多层结构AR减反膜、HR高反膜、彩膜等，设备适用范围非常广范，一次走膜即可完成单层膜沉积。

设备可采用单质金属靶材如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等，或化合物靶材如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5、ITO、AZO等。

设备尺寸小，结构设计紧凑，占地面积小，能耗低，调整灵活，非常适用工艺、产品研发或小批量量产的需求。